EVM系列測量儀是2.5D精密影像測量儀系列，具有功能、性能穩定、精度高、操作簡單、維護方便等特點?？蓪⒁酝萌庋墼趥鹘y顯微鏡下所觀察到的影像將其數字化，并將其儲存入計算機中作各式量測、繪圖再可將所得之資料儲存于計算機中，以便日后存盤或電子郵件的發送。該儀器適用于以二座標測量為目的應用領域如：品質檢測、工程開發、繪圖等用途。在機械、模具、刀具、塑膠、電子、儀表等行業使用。

相對于其他產品系列比較而言，該系列具有結構簡單、承載能力強、工件放置空間開闊、裝卸便捷等特點。

型號規格：PZ-EVM-3020G
主要技術指標：
2.1測量范圍：X=300mm，Y=200mm，Z=200mm

2.2金屬臺尺寸(mm): 500×330

2.3玻璃臺尺寸(mm): 350×280

2.4外型尺寸L*W*H：X=760mm，Y=600mm，Z=900mm

2.5儀器重量：140kg

2.6 X.Y坐標示值誤差≤(2.5+L/100)μm(L為被測長度單位:mm)

2.7分辨率：0.0005mm

2.8大承受重量：30kg

2.9環境要求：

溫度范圍：20±5℃，0.5℃/h
濕度范圍：45%-65%
電    源：220V(AC) ，50Hz ，30W
4.配置、功能及技術說明

4.1 測量儀主機一臺：

包括測量儀主機、高精度長度測量系統、多功能數據處理器。

4.1.1  底座：采用整體式高精度天然花崗巖底座，硬度高、不易變形、穩定性高、承載能力強、工件放置空間寬闊。

4.1.2  導軌：三軸導軌均采用高精度V型導軌,使三軸具有相同的溫度特性，因而具有良好的溫度穩定性、抗時效變形能力、剛性好、幾何變形?。浑p層工作平臺設計，移動平穩輕松。

4.1.3  絲桿：X、Y軸均使用無牙光桿磨擦傳動，避免了絲桿傳動的背隙，靈敏度大大提高，只用輕輕一扳亦可切換快速移動、鎖緊狀態，提高工作效率。

4.1.4  光柵尺：儀器平臺帶有高精密光柵尺（X、Y、Z三軸）,解析度為0.0005mm。Z軸通過二次聚焦可實現對溝槽、盲孔的深度進行測量。

4.1.5  變焦鏡筒：采用光學連續變焦鏡筒，光學放大倍率0.7X～4.5X，視頻總放大倍率：40X～200X，可按客戶要求選配不同倍率物鏡。工作距離：92mm  物方視場:10.6～1.6mm

4.1.6  攝像機：配備低照度1/3”彩色CCD攝像機，圖像表面紋理清晰，輪廓層次分明，保證擁有高品質的測量畫面。

4.1.7  光源：輪廓光源/表面光源：采用可調亮度的LED光源,照明效果好，使工件表面照明均勻，邊緣清晰。壽命是傳統燈泡的10倍。